TEFLON (PTFE/PFA) KAPLI VANALAR
Teflon Kaplı Kelebek Vanalar
İki parçalı gövde dizaynına sahip , Teflon (PTFE / PFA) kaplı kelebek vanalar özellikle yüksek korozyon dayanımı istenen akışkanlar için özel olarak geliştirilmiş tasarıma sahip olmakla birlikte PTFE (Teflon) conta ve onu saran back-up ringi ile her iki yönde de mükemmel sızdırmazlık sağlamaktadır. SV350 serisi kelebek vanalar kimya ve petrokimya endüstrisi , klor-alkali tesisleri, gübre fabrikaları vb korozif akışkanların ve ortam şartlarının bulunduğu birçok endüstride güvenli bir şekilde kullanılmaktadır.
Teflon Kaplı Küresel Vanalar
Teflon (PTFE / PFA) kaplı küresel vanalar, yüksek kimyasal korozyon dayanımı istenen akışkanlar ( Hidroklorik asit, Nitrik asit, Hidroflorik asit, Sıvı klor, Sülfürik asit vb) için geliştirilmiş özel dizayna sahiptir. İki parçalı gövde dizaynı ile kolay bakım yapılabilir. Tam geçişli gövde tasarımı sayesinde düşük basınç kaybı ve yüksek akış sağlar.






Teflon Kaplı Diyaframlı Vanalar
Teflon (PTFE/PFA) kaplı diyaframlı vanalar, yüksek kimyasal korozyon dayanımı istenen akışkanlar ( Hidroklorik asit, Nitrik asit, Hidroflorik asit, Sıvı klor, Sülfürik asit vb) için geliştirilmiş özel dizayna sahiptir.











Teflon Kaplı Plug Vanalar
Teflon (PTFE/PFA) kaplı plug vanalar, yüksek kimyasal korozyon dayanımı istenen akışkanlar ( Hidroklorik asit, Nitrik asit, Hidroflorik asit, Sıvı klor, Sülfürik asit vb) için geliştirilmiş özel dizayna sahiptir.











Teflon Kaplı Çekvalfler
Teflon (PTFE/PFA) kaplı çekvalfler, yüksek kimyasal korozyon dayanımı istenen akışkanlar ( Hidroklorik asit, Nitrik asit, Hidroflorik asit, Sıvı klor, Sülfürik asit vb) için geliştirilmiş özel dizayna sahiptir.





Teflon Kaplı Boru ve Ek Parçalar
Teflon (PTFE/PFA) kaplı boru ve ek parçalar, yüksek kimyasal korozyon dayanımı istenen akışkanlar ( Hidroklorik asit, Nitrik asit, Hidroflorik asit, Sıvı klor, Sülfürik asit vb) için geliştirilmiş özel dizayna sahiptir. Pürüzsüz ve toz tutmayan özel yüzeyiyle , gıda ve kimya uygulamaları için uygundur.